News 狭小スペースへの微細文字彫刻【彫刻G】

development ソルテックの挑戦。
研究開発技術

研究開発事例:  2021年3月 狭小スペースへの微細文字彫刻【彫刻G】

彫刻文字位置精度の向上

研究開発の狙い・背景

少しの位置ズレで文字が範囲からはみ出すNGに対応するため。

行ったこと

既存の彫刻機に取り付けている顕微鏡の倍率を20倍から60倍に上げた。

結果

顕微鏡を見ながら位置精度の微調整が可能とになった。

考察

φ0.24のエジェクターピン先端に文字高さ0.15の彫刻加工が可能となった。